Div. Catalizadores y Superficies. Área Superficies e Interfaces

Grupo de investigación: División Catalizadores y Superficies. Área Superficies e Interfaces

Director

Dr. ALDAO, Celso

Integrantes:

Lic. MIRABELLA, DAniel Alejandro

Dr. SCHIPANI, Federico

Dra. BUONO, Camila

Tema de investigación

Todos los objetos tienen superficies y casi todas las interacciones con el mundo exterior tienen lugar a través de ellas. De hecho las superficies juegan un rol preponderante en nuestra vida cotidiana ya que un sinnúmero de aplicaciones tecnológicas están basadas en los procesos que allí ocurren. Así, el noventa por ciento de los productos químicos esenciales se obtienen mediante procesos catalíticos heterogéneos que involucran fenómenos que tienen lugar en una superficie, y los dispositivos electrónicos modernos basan su funcionamiento en fenómenos que tienen lugar en superficies e interfaces semiconductoras. En estos y otros campos, detalles morfológicos, como defectos a escala nanométrica o atómica, influyen crucialmente, por ejemplo en las respuesta de los dispositivos electrónicos.

Líneas de investigación

 

Formación de nanoestructuras por crecimiento y ataque químico.

Nuestras investigaciones básicas sobre la formación de nanoestructuras por crecimiento y ataque químico anisótropo incluyen la remoción de material y los efectos de adsorbatos en la superficie (100) del silicio y el crecimiento por electro deposición.El ataque químico es un proceso que se utiliza para configurar la superficie; involucra la remoción de material y la consiguiente alteración de la morfología superficial. Nuestros objetivo consiste en relacionar la morfología resultante, como consecuencia de la deposición y remoción de material y de la presencia de adsorbatos,con los fenómenos que tienen lugar a nivel atómico. La aplicación específica de modelos computacionales constituye una poderosa herramienta a fin de interpretar los ensayos de laboratorio mediante el testeo de diferentes mecanismos y sus posibles efectos.

 

Detección de gases por medio de películas de óxidos metálicos


Los sensores de gases basados en óxidos semiconductores permiten
monitorear y así controlar gases inflamables o tóxicos en el aire. En particular, los sensores basados en óxido de estaño son ampliamente empleados para detectar concentraciones muy bajas de monóxido de carbono (CO) debido a su alta selectividad y sensibilidad comparada con  otros sensores de gases cerámicos. Dada su toxicidad, la máxima concentración de CO permitida en ambientes de trabajo es de sólo 0.003%. El CO se puede producir en cualquier lugar, basta que exista material combustible, una llama y una mala ventilación, y es inodoro. Calefactores, calefones y estufas, y sus sistemas de evacuación, pueden convertirse en instrumentos letales que se encuentran en nuestros hogares. Por esta razón, concentramos nuestros esfuerzos en la detección de este gas.

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D.I.F.I. Departamento de Informática de la Facultad de Ingeniería